真空镀膜

wgtwgt · 发表于 2007-9-12 10:09:25

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wucaituzhuang · 发表于 2007-12-10 01:43:28

真空溅镀

真空溅镀（又称磁控溅镀）是利用磁场加上电场来控制电子、离子之运动，以产生辉光放电之现象。
真空机的简易装置如图所示，靶材放在阴极，腔壁为阳极，靶材为纯度99。5%之铝板。背面以循环水冷却，并置放磁铁。
利用真空泵浦抽真空，当真空腔内气压达5ⅹ10-5torr时，释放反应气体氩气，此时腔体气压为5ⅹ10-4torr时，利用电弧电源给靶材与腔体接通-650的直流电场，此时发生辉光放电产生电浆里，电子由于电场和磁场的作用下，在阴极附近作回旋运动来碰撞气体原子解离体Ar
Ar++e-、Ar+被制造出来后往阴极加速轰击靶材表面，产生二次电子和溅镀原子。二次电子又作碰撞气体之用，溅镀原子在氩气气压的运送下，在基材（轮圈）表面组成溥膜。

lzw125 · 发表于 2009-8-23 10:56:01

先下来看看

sunjacob · 发表于 2009-9-9 20:44:37

x88y88 · 发表于 2009-9-10 09:15:37

谢谢提供资料okok

dawei0312 · 发表于 2010-5-17 20:17:43

下载学习了！谢谢了

csucad · 发表于 2012-3-16 15:40:02

谢谢，简明而要。直接贴出来更好

baitong2010 · 发表于 2012-5-19 19:20:18

什么资料阿？贴图看下阿！

LSFLSFL · 发表于 2014-1-13 15:41:11

不错！学习一下！

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wgtwgt wgtwgt 当前离线积分 51 精华阅读权限 0 注册时间 2005-8-8 最后登录 1970-1-1 IP卡狗仔卡头像被屏蔽	发表于 2007-9-12 10:09:25 \|Error\| 显示全部楼层 \|阅读模式提示: 作者被禁止或删除内容自动屏蔽
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